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       南京明睿TY-9000型半导体材料光谱分析仪，采用全电脑控制全数字火花光源，金属行业需要分析的化学元素均可测定，包括：痕量碳（C），磷（P）,硫（S）,特别是能实现氮（N）元素的分析。可以满足分析铁基，镍基，铝基，铜基，锌基，钛基，镁基，钴基，锆基等多种基体材料中的各种合金成份。电话：18651882886（微信号），客服QQ：250711175。

半导体材料光谱分析仪技术参数：

分析基体：铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等多个基体

光学结构：帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统

波长范围：130~800nm

焦距：400mm

光栅刻线：3000条/mm

探测器：高性能CCD阵列，每块CCD 3,648 像素，

CCD像素分辨率：6pm

电极：钨材喷射电极

分析间隙：样品台分析间隙：4mm

光源类型：全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）

激发频率：100-1000Hz

放电电流：400A

真空系统：真空软件自动控制、监测

仪器尺寸：720*860*500

仪器重量：约100kg（不含真空系统）

检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右  

半导体材料光谱分析仪配置及特点

   1、采用独特设计的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量。

   2、独特的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷。

   3、光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。

   4、独特的激发台及氩气气路设计，降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。

   5、不增加硬件设施的情况下，即可实现多基体分析。相比光电倍增管光谱仪可降低客户使用成本及使用范围。

   6、采用喷射电极技术。在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度。

   7、光谱操作软件完全兼容于windows系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。

   8、采用高性能FPGA、DSP及ARM处理器，具有***速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、激发光源等模块的运行状况。

   9、全数字化等等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。满足不同材料的激发要求。

  10、样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电极；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电极使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电极自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电极更加容易。